「レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決」をテーマにセミナーを開催します

セミナーは終了しました

セミナー概要

● 日　時　2017年12月22日(金) 10:00～16:30
● 会　場　連合会館401号室（東京・ＪＲお茶の水駅下車　徒歩約5分）
● 主　催　株式会社ＴＨ企画セミナーセンター
● 講　師　河合 晃 教授

※詳細(申込み)は主催者ページをご覧ください。
http://www.thplan.com/seminar/17214/

セミナー内容

受講対象

初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、初心者から実務者まで広範囲の方を対象としています。

習得知識

レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、などが習得できます。

講師の言葉

現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。本セミナーでは、これからレジスト材料を使用する方、レジストリソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。
初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。受講者が抱えている日々のトラブル相談にも応じます。

プログラム

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)

1-1 リソグラフィプロセスの基礎
（プロセスフロー、レジスト材料、ポジ型、ネガ型レジスト、光化学反応メカニズム、パターン現像、露光システム、レイリ―の式、解像力、焦点深度）

1-2 レジストコントラストで制御する
（光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、現像コントラスト、パターン断面形状改善）

1-3 レジストコーティング方式の最適化
（粘度、スピンコート、塗布むら対策、スキャンコート、スプレーコート、減圧ベーク、乾燥むら、インクジェットコート）

２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）

2-1 レジスト付着性の促進および低下要因とは
（表面エネルギー、凝集力、応力緩和、応力集中、溶液浸透、検査用パターン）

2-2 乾燥プロセスでのパターン剥離を検証する
（毛細管現象、パターン間メニスカス、Lucas-Washburnの式、エアートンネル）

2-3 表面エネルギーからレジスト付着性が予測できる
（濡れ性、Youngの式、表面エネルギー、分散と極性、Young-Dupreの式、付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル、付着性と密着性の差）

2-4 ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる
（軟化点効果、極性成分γｐ効果、最適条件の設定方法）

2-5 過剰なHMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
（最適な処理温度と処理時間、装置設計）

2-6 Al膜上でのレジスト付着不良と解決方法
（親水化、疎水化処理、酸化被膜形成、ＷＢＬ）

2-7 パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい
（アンダーカット形状、応力解析、応力集中効果、熱応力、表面硬化層の影響）

2-8 レジスト膜の応力をin-situ測定する
（減圧処理、応力緩和と発生、溶剤乾燥、拡散モデル）

2-9 レジスト膜の膨潤を計測する
（アルカリ液の浸透、クラウジウス・モソティの式、屈折率評価、導電性解析）

2-10 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策
（乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、ピンホール、膜はがれ）

2-11 ドライフィルムレジスト（DFR）の付着性
（メッキ時のEaves不良、バブル対策）

2-12 ナノインプリントにおける剥離残差対策
（疎水化による離型処理、付着性解析）

2-13 ウォーターマーク（乾燥痕）はこうして発生する
（乾燥メカニズム、液体内の対流効果、ピンニング、パターン形状依存性）

2-14 レジスト表面の微小気泡対策
（気泡のピンニング効果、エネルギー安定性解析）

３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）

3-1 微小パターンの物性
（表面サイズ効果、高分子集合体、粒子凝集モデル、ナノウェット効果）

3-2 レジストパターン1個の付着力を実測する
（DPAT法、計測感度、ナノサイズの付着力の実験式）

3-3 DPAT法、計測感度、ナノサイズの付着力の実験式
（レジストパターンからの集合体分離、Derjaguin近似）

3-4 レジスト膜中のナノ空間を見る
（vacancy、ナノスティックスリップ、パターン構造設計）

3-5 レジストパターン１個のヤング率を実測する
（ビームモデル、測定方法、ヤング率計測、強度設計）

3-6 レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する
（AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価）

3-7 レジスト膜表面のナノ気泡を見る
（AFMナノバブル観察）

４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）